氦質(zhì)譜測(cè)漏儀校準(zhǔn)應(yīng)用
2020.02.26
在使用氦氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔對(duì)氦質(zhì)譜測(cè)漏儀進(jìn)行校準(zhǔn)時(shí),氦質(zhì)譜測(cè)漏儀內(nèi)部校準(zhǔn)值要設(shè)定和標(biāo)準(zhǔn)漏孔的實(shí)際漏率值一樣，然后按照校準(zhǔn)程式進(jìn)行校準(zhǔn)，后將校準(zhǔn)后的結(jié)果保存，校準(zhǔn)完畢；另外還可以在檢漏儀吸式工作狀態(tài)時(shí)將吸槍靠近校準(zhǔn)漏孔泄漏點(diǎn)，比較一下氦質(zhì)譜檢漏儀上的測(cè)量值和標(biāo)準(zhǔn)漏孔的實(shí)際值的差異，然后在進(jìn)行校準(zhǔn)，再比較。
氦氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔氦質(zhì)譜測(cè)漏儀應(yīng)用
氦質(zhì)譜檢漏儀 吸式（Sniffer mode）使用時(shí)，數(shù)值會(huì)產(chǎn)生誤差，使用標(biāo)準(zhǔn)氦氣漏孔對(duì)氦質(zhì)譜檢漏儀 進(jìn)行校準(zhǔn)，在實(shí)際應(yīng)用中非常必要，Pfeiffer CL 004 氦氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔提供一個(gè)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)漏率值，氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)應(yīng)此標(biāo)準(zhǔn)漏率值進(jìn)行校準(zhǔn)，可以提高氦質(zhì)譜檢漏儀的度，達(dá)到一個(gè)更好的測(cè)試效果。
將氦質(zhì)譜測(cè)漏儀 HLT 560連接到泵組前的檢漏口上.
啟動(dòng)檢漏儀, 檢漏儀開(kāi)始抽取密閉腔體中的氣體,同時(shí)啟動(dòng)鍍膜設(shè)備的泵組.
在鍍膜機(jī)內(nèi)部的真空下降到一定程度的時(shí)候,如0.5 mbar以下的時(shí)候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標(biāo)準(zhǔn)保養(yǎng)時(shí)動(dòng)到的部位.這時(shí)需要有人觀察檢漏儀的漏率指示值的變化.當(dāng)漏率上升或漏率值變化劇烈的時(shí)候,及時(shí)指出漏點(diǎn)所在位置,并做記號(hào).
所有可疑點(diǎn)都檢測(cè)完成后,關(guān)閉氦質(zhì)譜測(cè)漏儀,停下鍍膜機(jī)的泵組并將鍍膜機(jī)打開(kāi),將檢測(cè)出的漏點(diǎn)進(jìn)行處理(如更換密封圈,清潔等等).處理完成后,再按照前敘步驟檢查一遍,直到所有漏點(diǎn)都被清除,檢漏過(guò)程完成.
氦氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔氦質(zhì)譜測(cè)漏儀應(yīng)用
氦質(zhì)譜檢漏儀 吸式（Sniffer mode）使用時(shí)，數(shù)值會(huì)產(chǎn)生誤差，使用標(biāo)準(zhǔn)氦氣漏孔對(duì)氦質(zhì)譜檢漏儀 進(jìn)行校準(zhǔn)，在實(shí)際應(yīng)用中非常必要，Pfeiffer CL 004 氦氣標(biāo)準(zhǔn)漏孔提供一個(gè)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)漏率值，氦質(zhì)譜檢漏儀對(duì)應(yīng)此標(biāo)準(zhǔn)漏率值進(jìn)行校準(zhǔn)，可以提高氦質(zhì)譜檢漏儀的度，達(dá)到一個(gè)更好的測(cè)試效果。
將氦質(zhì)譜測(cè)漏儀 HLT 560連接到泵組前的檢漏口上.
啟動(dòng)檢漏儀, 檢漏儀開(kāi)始抽取密閉腔體中的氣體,同時(shí)啟動(dòng)鍍膜設(shè)備的泵組.
在鍍膜機(jī)內(nèi)部的真空下降到一定程度的時(shí)候,如0.5 mbar以下的時(shí)候,拿氦氣噴在懷疑有漏的地方,或者檢查標(biāo)準(zhǔn)保養(yǎng)時(shí)動(dòng)到的部位.這時(shí)需要有人觀察檢漏儀的漏率指示值的變化.當(dāng)漏率上升或漏率值變化劇烈的時(shí)候,及時(shí)指出漏點(diǎn)所在位置,并做記號(hào).
所有可疑點(diǎn)都檢測(cè)完成后,關(guān)閉氦質(zhì)譜測(cè)漏儀,停下鍍膜機(jī)的泵組并將鍍膜機(jī)打開(kāi),將檢測(cè)出的漏點(diǎn)進(jìn)行處理(如更換密封圈,清潔等等).處理完成后,再按照前敘步驟檢查一遍,直到所有漏點(diǎn)都被清除,檢漏過(guò)程完成.
